硅旋轉靶采用等離子噴涂或者燒結綁定工藝，尺寸根據客戶要求定制。
硅平面靶采用拉晶生長工藝，尺寸可根據客戶要求加工。
純度：99.9-99.999%應用領域：薄膜太陽能工業，低輻射玻璃工業，平板顯示工業，光學鍍膜工業，半導體工業，工具及裝飾鍍膜工業。
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